PVD Titanium meta

4.506-4.516 grama po kubnom centimetru (20°C), što je više od aluminija i niže od željeza, bakra i nikla. Ali specifična snaga je na vrhu metala. Talište 1668±4°C Titanium ima slabu toplinsku provodljivost i električnu provodljivost, sličnu ili nešto nižoj od nehranjivog čelika, a titanij ima superprovodljivost.

Glavni zahtjevi performansi PVD Titanium Target: čistoća je glavni indeks performansi ciljnog materijala, jer čistoća ciljnog materijala ima veliki utjecaj na izvedbu filma. Ali u praksi, čistoća ciljanog materijala nije ista. Na primjer, sa brzim razvojem industrije mikroelektronike, veličina silicijeve vafere se razvija od 6 ", 8 "do 12", a širina ožičanja se smanjuje sa 0,5um na 0,25um,0,18um ili čak 0,13um. U prošlosti, 99,995% ciljne čistoće može da utiče na tehnološke zahteve od 0,35UMIC. Za pripremu linije od 0,18m potrebno je 99,999% ili čak 99,9999% čistoće ciljnog materijala. Sadržaj nečistoće: Nečistoće u čvrstoći ciljnog materijala i kiseonika i vodene pare u pore su glavni izvori zagađenja taložinih filmova. Različiti ciljni materijali za različite svrhe imaju različite zahtjeve za različit sadržaj nečistoće.

Karakteristike PVD Titanium Target materijala:

1, upotreba fazne taloћne preliv, poveжati snagu povrљine alata.

2, upotreba napredne tehnologije proizvodnje čistog metala i naučno naprednog dizajna ciljne građe romana.

3 Koristite čisti metalni i slini ciljni materijal, visoku čistoću, visoku denzitetu, odličnu strukturu, dug životni vjek.

4, specifikacije proizvoda su potpune, uključujući kružne, kružne, pravougaone i tubularne oblike, veličine se mogu prilagoditi prema korisničkim zahtjevima.

Neželični metali, rijetki metali, mehanička i električna oprema prerada (osim topionice) i prodaja; Da se uključe u uvoz i izvoz proizvoda iz opsega poslovanja kompanije. (Za projekte koji podliježu odobrenju prema zakonu, poslovne aktivnosti mogu se obavljati samo nakon odobrenja od strane relevantnih odjela).

Multi arc ion magnetron sputtering meta visoke čistoće titanijum titanium sputtering ciljni materijali ciljanog ciljanog cilindričkog titana meta, Titanijumska ploča, meta titanijumske cevi neuravnotežen magnetron sputtering ciljni materijal, titanijum ciljni cilj, titanium titanium magnetron sputtering ciljnih materijala, titanijum meta za 99,99%, PVD Titanium Target, više od arc titanium meta, titanijum površinski cilj, wafer kružni titanij cilj, dc sputtering ciljni materijal titanijum, Titanium visoko gusto homogeni ciljni materijal, ionski sputtering ciljni materijal Titanium plating, Titanium ciljevi za srednje frekvencije AC reaktivno sputtering, titanij ciljevi za vezivanje zavarivanje, titanij ciljevi za rf sputtering, titanij ciljevi za asimetrični puls sputtering, titanij ciljevi za ionski snop sputtering, rotacijski titanijum ciljevi

Titanium workpiece ima široku perspektivu primjene u aerosvemiru i drugim poljima zbog svojih izvrsnih performansi, ali je i ograničen njegovom efikasnosti obrade i proizvodnim troškovima. Razvojem i razvojem legure titanija, povećanjem sorti materijala titana i snižajem cijene, primjena titanija u civilnoj industriji će se eksponencijalno povećati, posebno u brodo-gradjevinstvu, proizvodnji automobila, hemijskoj industriji, elektronici, razvoju marinaca, biomedicini, desalinaciji morske vode, geotermalnoj proizvodnji energije, koroziji otpadnih voda i drugim civilnim poljima. Istovremeno, potražnja tržišta će ubrzati i razvoj industrije titanija i tehnologije obrade materijala titanija.

Popularni tagovi: pvd titanijum meta, Kina, dobavljači, proizvođači, fabrika, prilagođeno, na veliko, kupiti, cijena, jeftino, prodaja, citat, na zalihama, besplatan uzorak