Titanijumska anoda ima odličnu provodljivost i otpornost na koroziju, sa mnogo dužim vekom trajanja od olovne anode. Može raditi stabilno više od 4000 sati i ima nisku cijenu. Biće to nezaobilazan trend u razvoju proizvodnje galvanizacije cinka i kalaja u zemlji i inostranstvu. Titanijumske elektrode se trenutno koriste u Japanu, Sjedinjenim Američkim Državama, Njemačkoj i Kini, što ne samo da značajno štedi potrošnju energije za galvanizaciju, već i stvara uvjete za proizvodnju debelih pocinčanih i limenih čeličnih ploča povećanjem gustoće struje galvanizacije.
Klasifikacija oftitanijumske anode:
1. Prema evoluciji anodnog gasa u elektrohemijskim reakcijama, one koje precipitiraju gasoviti hlor se nazivaju anode za evoluciju hlora, kao što su titanijumske elektrode obložene rutenijumom; one koje precipitiraju oksidaciju nazivaju se anodama za evoluciju kiseonika, kao što su titanijumske elektrode na bazi iridijuma i mrežice/ploče od titanijuma od platine. Anoda za hlorisanje (titanijumska elektroda obložena rutenijumom): Elektrolit ima visok sadržaj hloridnih jona i generalno se koristi u okruženjima hlorovodonične kiseline, elektrolitičkim okruženjima morske vode i elektrolitičkim fiziološkim okruženjima. Odgovarajući proizvodi naše kompanije su rutenijum iridijum titanijum anoda i rutenijum iridijum kalaj titan anoda.
2. Anoda koja razvija kiseonik (titanijumska elektroda obložena iridijumom): Elektrolit je generalno u okruženju sumporne kiseline. Odgovarajući proizvodi naše kompanije su iridijum tantal anoda, iridijum tantal kalaj titan anoda i visoko iridijum titan anoda.
3. Anoda presvučena platinom: titanijum kao podloga. Površina je presvučena platinom, a debljina premaza je uglavnom 0.5-5 μm. Veličina mreže od platinaste titanijumske mreže je uglavnom 12,5 × 4,5 mm ili 6 × 3,5 mm
Radni vek rutenijum iridijum titanijum anode tokom rada elektrolize ima određeno ograničenje. Kada napon poraste vrlo visoko i zapravo ne postoji struja koja prolazi, rutenijum iridijum-titanijum anoda gubi svoju funkciju, a ovaj fenomen se naziva pasivizacija anode.
Postoji nekoliko razloga za pasivizaciju rutenijum iridijum titanijum anode:
a. Premaz se ljušti
Titanijum-rutenijum-iridijum-titanijum anoda sastoji se od titanijumske podloge i rutenijum-iridijum-titanijum aktivnog premaza. Rutenijum iridijum titan aktivni premaz je jedini koji igra ulogu elektrohemijske reakcije. Ako premaz nije čvrsto vezan za podlogu i otpadne sa podloge titanijumske ploče u određenoj meri, titan rutenijum iridijum titan anoda gubi svoju funkciju. (Podijeljeno na drobljenje, osipanje ispupčenog sloja i osipanje pukotina)
b. Rastvaranje RuO2
Pojava niske količine kiseonika može usporiti stvaranje oksidnog filma. Kada se ukupna gustina struje elektrolize poveća, brzina stvaranja hlora raste mnogo brže od brzine stvaranja kiseonika, tako da je povećanje gustine struje korisno za smanjenje sadržaja kiseonika u hloru. Predoksidaciona obrada se izvodi na titanijumskoj podlozi kako bi se formirao sloj oksidnog filma, koji može povećati čvrstoću veze između aktivne prevlake rutenijum iridijum titanijuma i titanijum supstrata, čineći premaz čvrstim i sprečavajući odvajanje i otapanje rutenija. Međutim, to također može uzrokovati povećanje omskog pada rutenijum iridijum titan anode.
c. Zasićenost oksidom
Aktivni premaz se sastoji od nestehiometrijskih RuO2- i TiO2, koji pripadaju oksidima sa nedostatkom kiseonika. Istinski aktivni centri za pražnjenje hlora su nestehiometrijski oksidi. Što je više takvih oksida, to je više aktivnih centara i bolja je aktivnost rutenijum iridijum titan anode. Provodljivost anoda obloženih rutenijum iridijumom i titanijumom je performanse koje pokazuju iskrivljeni mješoviti kristali n-tipa generirani iz istog kristalnog oblika RuO2 i TiO2 kroz termičku obradu, koji sadrže neke slobodne prostorije za kisik. Kada se ova slobodna mjesta kisika popune kisikom, prepotencijal se brzo povećava, što dovodi do pasivizacije.
d. Postoje pukotine u premazu
Tokom elektrolize, na rutenijum iridijumu se stvara novi ekološki kiseoniktitanijum anoda, pri čemu se njegov dio ispušta na granici između aktivnog premaza i elektrolita, a zatim napušta površinu anode kako bi stvorio kisik koji ulazi u otopinu; Zbog prisutnosti pukotina u aktivnom premazu, drugi dio kisika se adsorbira na površini anode i difundira ili migrira kroz aktivni premaz kako bi došao do granice između premaza i titanijumske podloge. Zatim se kiseonik hemijski adsorbuje na površini titanijumske podloge, formirajući neprovodni oksidni film (TiO2) sa titanom i stvarajući povratnu otpornost; Alternativno, elektrolit može prodrijeti kroz pukotine u premazu, uzrokujući da titanijum supstrat polako oksidira i korodira sučelje sa aktivnim slojem rutenijum iridijum titanijum, što rezultira odvajanjem aktivne prevlake rutenijum iridijum titanijuma i povećanjem anodnog potencijala rutenijum iridijum titanijum. Povećanje potencijala dalje potiče otapanje premaza i oksidaciju titanijumske podloge.
Država:Kina
Dodaj: Baoti cesta, Jintai, Baoji grad, Shaanxi, Kina
Cel/Whatsapp :+86 18309262795
Email:annie@jmyunti.com
Web stranica: www.jm-titanium.com
